Sistema de Feix d’Ions Focalitzats (FIB)

Equipament/Infraestructura


Equip per a fer dissenys i patrons a la micro i nanoescala en superfícies de pràcticament qualsevol mostra de material sòlid.

 

Equips

 

Zeiss 1560XB Cross Beam Zeiss Int. (Raith GmbH lithography module)

 

Carl Zeiss Neon40 Crossbeam ™ 

Més informació:

Call Now Button