Fabricació de nanoestructures amb diverses formes incloent nanodiscs, nanoel.lipses, nanofilaments, nanocons, nanoforats de diversos materials metàl.lics (ex. Au, Co, Ni, Fe, Cu…), dielèctrics (ex., SiO2, Al2O3) i semiconductors (ex, Si, Ge) sobre diferents substrats (Si, polímer, vidres, metalls….). La mida de les nanoestructures pot ser des de 40 nm a 2000 nm en direcció transversal, i alçades des de 1 nm a diverses micres.
