L’equip d’implantació iònica és una tecnologia sofisticada que s’utilitza en la indústria de fabricació de semiconductors i en diversos altres camps per introduir quantitats precises d’àtoms dopants a la superfície d’un material. Es tracta de bombardejar el material amb un feix d’ions d’alta energia, que penetra a la superfície i modifica les seves propietats elèctriques.
A mesura que la tecnologia dels semiconductors continua avançant, els equips d’implantació d’ions també estan evolucionant per satisfer els requisits cada cop més exigents dels dispositius moderns.
Equips:
Metal Vapor Vacuum Arc (MEVVA) Ion Implantation Source from Plasma Technology Limited (Hong Kong) (Eurecat)
