Deposició física de vapor (PVD i PECVD)

equipment


Tècnica per a realitzar dipòsits de capa prima sobre diferents mostres , tant monocapa com multicapa, de materials metàl•lics i ceràmics entre d’altres. Majoritàriament utilitzat per crear mostres prototipus i validar la viabilitat i compatibilitat entre productes de mercat i els dipòsits funcionals proposats. També s’utilitza per a la producció de sèries curtes.

 

Equips:

Industrial PVD reactor from TTC (Tratamientos Térmicos Carreras, S.A.) (Eurecat)

Lab scale PVD reactor from Plasma Technology Limited (Hong Kong) (Eurecat)

 

 

 

Més informació: